Бельгийский Межуниверситетский центр микроэлектроники (imec) представил первое в мире устройство на квантовых точечных кубитах. Оно изготовлено с использованием High-NA EUV-литографии.
Главное достижение связано не только с фактом производства, но и с плотностью печати: критические элементы удалось изготовить с зазорами около 6 нм. Для таких кубитов это важно, поскольку сила связи между соседними квантовыми точками растет экспоненциально при уменьшении расстояния между ними.
В imec заявили, что внедрение High-NA EUV позволяет перейти от лабораторных демонстраций отдельных устройств к воспроизводимым кубитам, совместимым с 300 мм пластинами.
Центр ранее уже называл ключевыми условиями масштабирования полный переход на 300 мм процесс и использование более масштабируемой архитектуры квантовых точек, которая должна снизить проблему узкого места проводников.
Индустрии нужны не только высококачественные, но и масштабируемые кубиты. В imec считают, что квантовые биты на спинах электронов в кремниевых квантовых точках интересны именно возможностью двигаться сразу в двух направлениях: улучшать характеристики кубитов и одновременно повышать масштабируемость производства.
В imec сообщили, что EUV-литография обеспечивает более высокую точность совмещения слоев при производстве чипов по сравнению с E-beam-инструментами. Для кремниевых кубитов это критично, поскольку стабильность системы зависит не только от минимального размера элементов, но и от точности размещения управляющих электродов, контактов и металлизации относительно друг друга.
Отдельно в imec подчеркнули, что High-NA EUV пока остается крайне редкой технологией.
Напомним, в мае глобальный директор по продажам IBM Quantum Петра Флоризун заявила о выходе квантовых вычислений из стадии лабораторных экспериментов и начале их применения в реальных задачах.
